한국화학공학회(학회장 오장수)가 주최하는 봄총회 및 학술대회가 'Back to Basics(Reinventing Chemical Engineering basics)'를 주제로 오는 26일부터 28일까지 제주국제컨벤션센터(ICC JEJU)에서 개최된다.
이번 학술대회는 총회와 구두발표, 특별심포지엄, 포스터발표 등의 프로그램으로 2500명이 참석한 가운데 진행된다.
특히 분리기술/열역학부문 위원회, 고분자부문 위원회, 촉매부문 위원회, 이동현상부문 위원회, 화학공정안전부문 위원회, 미립자공학부문 위원회, 에너지환경부문 위원회, 생물화공부문 위원회, 재료부문 위원회 등의 부문 위원회별로 주제별 심포지엄이 진행될 예정이다.
한국화학공학회 오장수 학회장은 인사말을 통해 "기반(Basics)은 사물이나 일의 기초가 되는 토대로서 기반기술은 모든 응용기술의 기초가 되는 근간을 이루고 당장 눈앞의 성과와는 비교되지 않는 큰 성과를 가져올 것"이라며, "이번 학술대회는 이 주제를 토대로 분리기술/열역학, 이동현상, 촉매 등의 분야에서 향후 기반기술의 나아갈 방향에 대해 함께 고민하고 토의하는 기회가 될 것이다"라고 말했다.
한편, 한국화학공학회는 화학공학을 대변하는 학회로서 지난 1962년에 창립되어 현재 회원수 5000여 명, 본부와 9개 지부, 13개의 부문위원회로 구성돼 있다. <헤드라인제주>
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